| 1983 | GaAs/InP研究用 縦型 VR2000 2"x1を開発しMOCVD事業を開始 |
| 1985 | 営業と設計を含めたプロジェクトチーム発足 GaAs/InP研究開発/生産用 横型 HR3000 2"x1 と HR4000 2"x3 を上市 |
| 1992 | つくば研究所設立。MOCVDのプロセスと装置開発を加速 |
| 1993 | GaAs/InP電子/発光デバイス量産用 Facedown式 HR8000 3"x6 or 4"x4 を上市 |
| 1995 | GaN研究用 SR2000 2"x1 を上市 |
| 1997 | 川﨑に装置組立クリーンルームを増設 |
| 1998 | GaN生産用 SR6000 2"x6 を上市 |
| 2000 | GaAs/InP量産用 PR10000 4"x6 を開発 |
| 2002 | GaN電子/発光デバイス生産用 SR4000 2"x3 を上市 |
| 2003 | GaAs/InP発光デバイス量産用 自公転型 PR-23000 2"x25 を上市 |
| 2005 | GaN発光デバイス量産用 自公転型 SR-23K 2"x10 を上市 |
| 2007 | GaN電子デバイス量産用 自公転型 SR-24K 6"x5 を上市 |
| 2009 | GaN発光デバイス量産用 自公転型 UR-25K 4"x10 or 6"x7 を上市 |
| 2011 | GaN電子デバイス量産用 自公転型 UR-26K 8"x6 or 6"x10 を上市 |
